Separador Ultrasónico de Polvos Finos | SWEQUIPOS

Separador ultrasónico Sono-Energy para polvos finos

Separadores Ultrasónicos para Polvos Finos

Los sistemas ultrasónicos Sono-Energy y Sono-Wave de SWECO permiten cribar polvos finos y extra finos que tienden a obstruir las mallas convencionales.

La energía ultrasónica genera una vibración secundaria de alta frecuencia sobre la malla. Esta acción reduce el taponamiento, ayuda a desintegrar aglomeraciones suaves y mantiene activa una mayor superficie de cribado.

¿Cuándo utilizar cribado ultrasónico?

Es especialmente útil para:

  • Polvos de baja densidad que se acumulan sobre la malla.
  • Partículas cercanas al tamaño de abertura que quedan atrapadas.
  • Materiales con carga electrostática.
  • Polvos metálicos de alta densidad.
  • Aplicaciones con mallas muy finas.
  • Productos que presentan aglomeraciones.

 

Los sistemas pueden trabajar en mallas aproximadas de 60 a 635, dependiendo del producto y la configuración.

 

Beneficios del sistema ultrasónico

  • Menor taponamiento de la malla.
  • Mayor área activa de cribado.
  • Mejor precisión de separación.
  • Aumento de capacidad en aplicaciones compatibles.
  • Desintegración de aglomeraciones suaves.
  • Menor fracción de producto fuera de especificación.
  • Mayor continuidad operativa.
  • Un generador puede alimentar más de una malla en determinadas configuraciones.

 

Sono-Wave utiliza un controlador digital instalado fuera del separador y permite ajustar parámetros de operación.

 

Aplicaciones

Puede utilizarse con pinturas en polvo, tóner, epóxicos, productos farmacéuticos, químicos finos, polvos metálicos, materiales para manufactura aditiva y otros productos difíciles de cribar.

Especificaciones
técnicas

Proteja la pureza de sus polvos

Un alimentador vibratorio ERIEZ puede suministrar el polvo gradualmente y evitar cargas repentinas sobre la malla.

Una rejilla magnética ERIEZ puede retirar partículas ferrosas antes o después del cribado.

La integración permite dosificar, clasificar y proteger polvos finos en un mismo proceso.

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